纯二氧化钒薄膜制备工艺参数试验优化研究

摘要：

针对传统方法制备VO2膜成分伴随多种其他钒氧化物生成的问题,设计正交试验采用VO2靶在蓝宝石基底上通过射频磁控溅射的方法制备VO2薄膜,并对其进行退火热处理.对XRD检测结果进行分析,工艺参数下所制备的薄膜均在以2θ=28.9°为中心出现较明显的衍射峰,并在2θ=44.3°出现微弱衍射峰,分别对应VO2的(011)、(021)两个面,并且只有这两个衍射峰.发现其制备薄膜纯度高,避免了传统制备方法多种钒氧化物的生成.检测了2～25μm波段范围内高低温(15、80℃)透过率.在选定波段,常温透过率可达60％以上,高温相变后透过率低于10％,透过率变化幅度高于50％.在最优工艺参数下制备的薄膜具有更好的激光防护性能.

关键词：二氧化钒靶、二氧化钒、最佳工艺、透过率

分类号：TB43(工业通用技术与设备)

在线出版日期：2018-06-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：12-17