ICP-AES法测定二氧化硅标准物质中微量杂质元素的研究

摘要：

本文研究建立ICP-AES测定SiO2标准物质中杂质元素含量的方法.钛、钙、镁、钠、铁、钻、铝、铜、锰、铅、铬、镍的质量浓度分别在0.1～1.5,0.05～1.0,0.05～1.0,0.05 ～ 1.0,0.05～2.0,0.1～1.0,0.05～2.5,0.1～1.0,0.1～1.0,0.1～1.0,0.05～1.0,0.05 ～ 1.0mg·L1范围内与其光谱强度线性相关,相关系数均大于0.999;方法检出限分别为0.005,0.05,0.015,0.2,0.05,0.05,0.15,0.015,0.005,0.15,0.02,0.05mg· L-1,加标回收率均在90.0％ ～ 115.0％之间,测定结果的相对标准偏差均小于5％(n=6).表明此方法准确度和精密度以及重复性,可用于SiO2标准物质中杂质的含量测定,也可用于高纯石英原料及制品的杂质含量分析.

关键词：二氧化硅标准物质、电感耦合等离子发射光谱、微量杂质

所属期刊栏目：31

分类号：O657.3(分析化学)

资助基金：国家质量技术监督检验检疫总局科技项目2015QK038

在线出版日期：2017-06-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：22-26