以多孔氧化铝为模板钴纳米线阵列的制备

摘要：

以多孔氧化铝为模板,采用交流电沉积的方法制备了钴纳米线阵列膜.采用扫描电子显微镜(SEM)对电沉积钴纳米线前后的多孔氧化铝模板的形貌进行表征,通过透射电子显微镜(TElM)观察钴纳米线的表面形貌.结果表明:金属钴沉积到多孑L氧化铝模板的纳米孑L中,钴纳米线的平均直径约为50n/n,与氧化铝模板的孔径相一致.

关键词：钴纳米线阵列、多孔氧化铝模板、交流电沉积、纳米材料

所属期刊栏目：22

分类号：O646(物理化学（理论化学）、化学物理学)

在线出版日期：2008-11-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：63-64