非晶态Tb-Fe硅基薄膜超磁致伸缩特性研究

摘要：

本文研究由溅射法制备的非晶态Tb-Fe硅基薄膜在室温下的磁致伸缩特性,从中找到一种在低磁场下仍具有较大磁致伸缩性的材料.研究结果表明:非晶态Tb-Fe薄膜,经450℃真空热处理,在其非晶相基础上可形成均匀细小的晶体颗粒,其磁致伸缩系数在49×104A·m-1的外磁场中可达380×10-6,并且λ随H的增大迅速提高,具有良好的软磁特性,符合预期的应用要求.

关键词：非晶态、超磁致伸缩、薄膜、溅射法

所属期刊栏目：19

分类号：TB43(工业通用技术与设备)

在线出版日期：2005-11-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：13-14