脉冲激光溅射合成八-(甲基硅倍半氧烷)
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10.3969/j.issn.1002-1124.2000.04.012

脉冲激光溅射合成八-(甲基硅倍半氧烷)

引用
以脉冲激光溅射作用于聚甲基硅氧烷,经真空升华,直接得到了一种产物的单晶.经X-射线晶体衍射测定确定其为具有(CH3SiO1.5)8组成的硅氧烷.该种产物具有多环立体空间构型.结果表明,在脉冲激光的作用下,反应物的链状结构发生解离,并在等离子体条件下进行结构重组,生成了具有立体空间构型的产物.

激光溅射、合成、硅氧烷

O432.1(光学)

2004-08-06(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共2页

28-29

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