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10.3969/j.issn.1008-2298.2010.04.011

三聚氰胺修饰电极同位镀铋膜测定镉离子

引用
采用电聚合方法制备三聚氰胺修饰玻碳电极(PM/GC),然后在其表面同位镀铋膜,研究Cd2+在该电极上的溶出伏安行为,并与裸玻碳电极(GC)同位镀铋膜电极上Cd2+的溶出伏安行为进行比较.研究表明,镉在同位镀铋膜的PM/GC电极上可得到灵敏的溶出峰.在优化的实验条件下,镉的氧化峰电流与其在1.0×10~1.O×10-6mol/L浓度范围内呈良好的线性关系,检测下限为5.0×10-8mol/L.由于每次溶出后可方便地将铋膜溶解更新,该方法重现性好.使用铋膜电极替代汞膜电极还有利于保护环境.

同位镀铋膜、镉离子、修饰电极、三聚氰胺

30

R57;O65

四川理工学院科技项目2009xjkyl001;四川省教育厅基金资助项目10ZB102

2011-04-15(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

58-61

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1008-2298

32-1406/TP

30

2010,30(4)

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