DNA在SiO2纳米粒子薄膜表面的单分子行为研究

摘要：

基于应用全内反射荧光显微镜,利用YOYO-1标记的λ-DNA分子作为探针研究了SiO2纳米粒子薄膜的表面性质,在不同的pH值下,考察了pH值对单个DNA分子在其表面行为(自由运动和吸附)的影响,并采用接触角(CA)和原子力显微镜(Atomic Force Microscope,AFM)表征了SiO2纳米粒子薄膜表面的性质.实验表明,随着pH值的降低,DNA分子在其表面的吸附率随之增大.DNA分子在SiO2纳米粒子薄膜表面的吸附行为是静电作用和疏水作用共同作用的结果,但是起主导作用的是疏水作用.此外,相同pH值下,与文献中报道的DNA在玻片上的吸附率相比,DNA在SiO2纳米粒子薄膜表面的吸附率要大得多,这是由于SiO2纳米粒子的比表面积大,表面活性位点多,且疏水性能强的缘故.

关键词：单分子、全内反射荧光、DNA、SiO2纳米粒子

所属期刊栏目：30

分类号：TP3;TN1

在线出版日期：2011-04-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：43-49