紫外光催化振动复合抛光

摘要：

为了满足工业领域的不同要求,研究了碳化硅(SiC)陶瓷超光滑表面且无表面损伤的抛光工艺,提出了一种紫外光催化振动复合抛光新方法.基于紫外光催化反应理论,论述了光催化振动复合抛光的加工机理,进行了不同的实验.首先进行了甲基橙降解实验,研究了光催化振动复合抛光氧化性对振动的依赖关系;接着进行了紫外光催化振动复合抛光对比实验,研究了振动前后SiC的抛光效果,验证了新抛光方法的有效性.实验结果表明,光催化反应生成的强氧化性羟基自由基能够将高硬度的SiC氧化成质地较软的二氧化硅,振动的引入减少了光催化反应中光催化剂的团聚,提高了抛光过程中氧化和去除的均匀性,从而提高了抛光过程中SiC的表面质量,最终获得了粗糙度为31～39nm的光滑表面.

关键词：复合抛光、紫外光、振动、碳化硅陶瓷、团聚

所属期刊栏目：51

分类号：TH161

资助基金：吉林省重点实验室专项;主题科学家专项

在线出版日期：2023-01-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：353-359