太赫兹扫描成像在高通量测量铜合金薄膜电导中的应用(特邀)

摘要：

高通量制备与表征对将材料基因组方法应用于先进材料研发制造实践起着关键作用.针对基于材料基因工程的高通量实验技术应用,采用透射式太赫兹扫描成像方法,对样品密度为144个/片的铜合金薄膜材料芯片进行了高通量电导的快速、微区检测.基于Tinkham薄膜透射方程及Fresnel公式的太赫兹光谱成像表征技术,对不同组分含量铜合金薄膜的太赫兹测量结果与四探针测量数据比较,具有一致的趋势.通过太赫兹成像可以进行同一基底上144个高通量组合铜合金样品点电导的半定量比较.对代表性样品点的电导变化趋势与合金组分含量变化趋势,以及微观组织形貌进行分析比较得到相关对应关系,显示出太赫兹检测方法用于微区高通量金属薄膜电导表征方面的巨大潜力,显著提升研发效率.

关键词：材料基因工程、高通量、太赫兹光谱成像、铜合金、电导成像、微区采样

所属期刊栏目：51

分类号：O433.1(光学)

资助基金：中国科学院科技服务网络计划项目（STS）;江苏省六大人才高峰高层次人才项目

在线出版日期：2022-06-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共11页

页码：29-39