KDP晶体表面残留磁流变抛光液清洗技术研究

摘要：

磷酸二氢钾(KDP)晶体是一种非常优良的非线性光学晶体材料,在强激光系统中有着重要应用.但其理化性质特殊,加工高表面质量的元件难度很大.目前研究认为磁流变抛光技术能够获得高精度的KDP晶体表面,但是该加工过程带入的表面残留如不清除,会大大降低元件的性能.提出了一种针对磁流变抛光后续的KDP的清洗技术,设计了含水活性清洗液,结合超高频超声作用共同去除KDP表面残留.光学显微镜和白光干涉仪分析表明,该技术较好地去除了表面残留,并且晶体表面粗糙度有所降低.拉曼光谱和激光干涉仪测试表明,清洗前后KDP表面化学结构和面形精度一致.该研究获得了较为满意的结果,说明该方法是一种有应用前景的KDP超精密清洗方法.

关键词：光学晶体、清洗、兆声、KDP、MRF

所属期刊栏目：47

分类号：TH161

资助基金：国家自然科学基金;国家自然科学基金;科学挑战专题;中国工程物理研究院发展基金

在线出版日期：2018-08-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：132-137