光学薄膜参数测量方法研究

摘要：

为了研究准确性和效率更高的膜层光学薄膜参数测量方法，对优化膜系结构和改进制备工艺都有重要的指导作用。论文在研究传统测量方法基础上，将包络线法与全光谱拟合反演法相结合，提出了一种新型的光学薄膜参数测量方法。该方法将采用包络线法计算的单层膜光学薄膜参数近似值作为参考，设置全光谱拟合反演法优化搜索的上下限，结合适当的评价函数构建计算物理模型，并选用综合优化算法求解获得待测膜系各膜层的光学薄膜参数。最后设计 TiO2、SiO2单层膜和膜系为：G|0.5HLHL0.5H|A(H- TiO2，L- SiO2)的多层膜进行测量验证，并分析了该测量方法的效率、准确度、稳定性等。

关键词：光学薄膜、光学薄膜参数、包络线法、全光谱拟合反演法、包络线-全光谱拟合反演法

分类号：O484(固体物理学)

在线出版日期：2015-04-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：1048-1052