原子纳米光刻中双层光学掩膜的实现方法研究

摘要：

利用原子光刻的方法制备纳米结构的光栅已经成为了一种较为成熟的工艺。通过原子与激光驻波场的相互作用，利用原子自生在势能场中的偶极力对原子的密度进行调制，从而得到所需要的光栅结构。利用此种工艺所制备的光栅相对于传统工艺来说具有精度高，光栅常数直接溯源于原子能级。希望能够通过对激光的改良来提升原子沉积结果。通过双层驻波场来提高原子沉积质量已经被多次提到。实验中利用几何光学的方法实现了所需要的新型激光驻波场。并对其汇聚，相干等特性进行了研究，取得了较为满意的结果。为利用双层驻波场来沉积原子打下了基础。

关键词：原子光刻、光学掩膜、异形光束、几何光学

分类号：TN405(微电子学、集成电路（IC）)

资助基金：国家自然科学基金10804084，91123022；上海纳米专项0852nm07000，0952nm07000；国家科技支撑计划2006BAF06B08；国家教育部博士点基金200802471008

在线出版日期：2014-08-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：2070-2073