不同柔性衬底上C dS薄膜退火前后的性能比较

摘要：

采用磁控溅射法分别在柔性PI衬底、柔性AZO衬底和柔性ITO衬底上制备CdS薄膜，并在干燥空气中以CdCl2为源380℃退火，分别研究了不同柔性衬底及退火工艺对CdS薄膜形貌、结构和光学性能的影响。研究结果表明：退火前在不同柔性衬底上的CdS薄膜形貌依赖于衬底类型，退火后CdS薄膜的晶粒再结晶，晶粒度增大明显，且不再依赖于衬底类型。不同柔性衬底上CdS薄膜均为立方相和六角相的混相结构，退火后，六角相比例增大，薄膜的结晶质量提高。透过率退火后改善明显，其中，在柔性AZO衬底上的CdS薄膜透过率超过80%。

关键词：柔性衬底、CdS薄膜、磁控溅射、退火处理

分类号：O484.4(固体物理学)

资助基金：中国科学院知识创新工程重要方向项目KGCX2-YW-384；上海市2012年度“科技创新行动计划”节能减排领域项目12dz1201000

在线出版日期：2014-05-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：1235-1239