真空环境下飞秒激光制备的微构造硅的吸收和退火特性

摘要：

在真空环境下利用飞秒激光制备的“黑硅”材料，其形貌与SF6气氛中制备的“黑硅”材料有着很大的区别。为了研究这种真空环境下制备的微构造硅的相关光学特性，通过改变入射脉冲能量研究其峰值变化以及吸收特性，发现当峰值达到一定高度时其对200~2500 nm波段的光波有95%左右的吸收效率，这与SF6气氛中制备的微构造硅的吸收效率不相上下。最后对两种环境下制备的“黑硅”样品进行退火处理，发现真空环境下制备的“黑硅”材料比SF6气氛中制备的“黑硅”样品具有更好的耐退火性。这些结果对于利用真空环境下制备的微构造硅制作红外传感器具有重要意义。

关键词：黑硅、微构造、吸收效率、退火、红外传感器

分类号：O436(光学)

资助基金：上海市重点学科项目第三期工程S30502；科技部国家重大基础研究项目973计划2012CB934203；上海市教育委员会-上海市教育发展基金会“晨光计划”12CG54；中国国家自然科学基金会61007059，11104186，61138001，11174207；国家重大仪器专项2011YQ150021，2012YQ150092，2012YQ140005；上海市基础研究重点项目12510502300

在线出版日期：2014-03-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：398-403