深凹球面网栅恒定曝光量激光直写控制实现

摘要：

为在深凹球面内激光直写高质量网栅图形,必须实现写入过程恒定曝光量控制.首先介绍了深凹球面网栅激光直写设备原理,然后分析了任意纬线扫描运动状态,推导了工件尺寸、网栅参数、扫描速度间数学关系,最后建立了恒定曝光量扫描运动数学模型,开发了伺服控制软、硬件系统,确保了扫描角速度随纬度自动精确调整来保持线速度不变,实现了深凹球面网栅激光直写恒定曝光量控制,提高了写入线条质量.在矢跨比为0.31的深凹球面内制备了周期500滋m的网栅,显影后测得线条线宽均匀,侧壁陡直,线宽误差臆依1%,网格周期误差臆依5%.

关键词：恒定曝光量、凹球面、网栅、激光直写、伺服控制

分类号：TP275(自动化技术及设备)

在线出版日期：2013-04-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：381-386