10.3969/j.issn.1007-2276.2012.05.014
1064nm激光多脉冲下HfO2/SiO2高反膜损伤规律
利用小口径元件损伤测试平台对HfO2/SiO2高反膜的1 064nm激光多脉冲损伤规律进行了研究.研究结果表明:多脉冲作用下HfO2/SiO2高反膜损伤在形态上主要分为色斑和层裂两类,在一定条件的多发次脉冲作用下,色斑损伤存在向层裂损伤转换的趋势;层裂损伤尺寸随脉冲发次呈指数递增后趋于极大值的变化规律,且终态尺寸与辐照激光能量密度呈近似线性关系;色斑S-on-1损伤阈值与脉冲发次关系不明显,而层裂S-on-1损伤阈值随脉冲发次增加呈指数衰减后趋于极小值的变化规律.采用衰减公式拟合手段,对元件抗损伤能力退化规律进行了初步的定量分析.
损伤形态、损伤增长、S-on-1损伤测试、抗损伤能力
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O437(光学)
国家863计划
2012-08-09(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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1191-1194