1064nm激光多脉冲下HfO2/SiO2高反膜损伤规律

摘要：

利用小口径元件损伤测试平台对HfO2/SiO2高反膜的1 064nm激光多脉冲损伤规律进行了研究.研究结果表明:多脉冲作用下HfO2/SiO2高反膜损伤在形态上主要分为色斑和层裂两类,在一定条件的多发次脉冲作用下,色斑损伤存在向层裂损伤转换的趋势；层裂损伤尺寸随脉冲发次呈指数递增后趋于极大值的变化规律,且终态尺寸与辐照激光能量密度呈近似线性关系；色斑S-on-1损伤阈值与脉冲发次关系不明显,而层裂S-on-1损伤阈值随脉冲发次增加呈指数衰减后趋于极小值的变化规律.采用衰减公式拟合手段,对元件抗损伤能力退化规律进行了初步的定量分析.

关键词：损伤形态、损伤增长、S-on-1损伤测试、抗损伤能力

所属期刊栏目：41

分类号：O437(光学)

资助基金：国家863计划

在线出版日期：2012-08-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：1191-1194