不同制备工艺下氧化硅和氧化铪薄膜的椭偏光谱

摘要：

椭偏技术是一种分析表面的光学方法,通过测量被测对象(样品)反射出的光线的偏振状态的变化情况来研究被测物质的性质.结合XRD和原子力显微镜等方法,利用椭圆偏振光谱仪测试了单层SiO2薄膜(K9基片)和单层HfO2薄膜(K9基片)的椭偏参数,并用Sellmeier模型和Cauchy模型对两种薄膜进行拟合,获得了SiO2薄膜和HfO2薄膜在300～800 nm波段内的色散关系.用X射线衍射仪确定薄膜结构,用原子力显微镜观察薄膜的微观形貌,分析表明:SiO2薄膜晶相结构呈现无定型结构,HfO2薄膜的晶相结构呈现单斜相结构；薄膜光学常数的大小和薄膜的表面形貌有关；Sellmeier和Cauchy模型较好地描述了该波段内薄膜的光学性能,并得到薄膜的折射率和消光系数等光学常数随波长的变化规律.

关键词：椭偏光谱、光学参数、薄膜、光谱

所属期刊栏目：41

分类号：O436(光学)

资助基金：国家863计划2009AA8044022

在线出版日期：2012-07-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：765-769