高反射镜膜层应力耦合研究
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10.3969/j.issn.1007-2276.2011.12.026

高反射镜膜层应力耦合研究

引用
为了控制高损伤阈值高反射镜膜层的应力,研究了沉积过程中沉积倾角、充氧量对高、低折射率单层膜应力大小的影响.研究发现这两个参数对控制薄膜应力有很大影响,SiO2薄膜在沉积倾角较小和充氧量增大时应力都逐渐减小,SiO2薄膜应力为压应力;HfO2薄膜在充氧量增大时薄膜应力变小,HfO2薄膜应力为张应力.因此,根据SiO2和HfO2薄膜的应力特性,调整镀膜工艺,实现了高、低折射率膜层之间的应力匹配,控制了反射镜面形;同时,镀制的高反射镜满足高功率激光器损伤阈值的要求.

剩余应力、充氧量、沉积倾角

40

O484.5(固体物理学)

NSAF基金

2012-04-20(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

2447-2450

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红外与激光工程

1007-2276

12-1261/TN

40

2011,40(12)

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