三氧化钨薄膜的红外发射率调制技术

摘要：

研究了利用载流子对材料表面的红外发射率进行调制的方法.根据电磁波理论,讨论了物体表面的发射率与折射率的关系,折射率大的物体发射率低.物质的折射率与其中的载流子浓度有关,通过控制载流子的浓度可以对材料的发射率进行调制.以磁控溅射方法在ITO玻璃上制备了氧化钨薄膜.利用电化学方法对三氧化钨薄膜进行了H+离子和电子的注入和抽取,此薄膜中载流子的浓度发生了变化.在着色态,三氧化钨薄膜具有较高的光谱反射率；在褪色态,三氧化钨薄膜具有较低的光谱反射率.结果表明,通过控制材料中载流子的浓度可以对材料的红外发射率进行调制.

关键词：红外发射率、折射率、调制、三氧化钨薄膜

所属期刊栏目：40

分类号：TN21(光电子技术、激光技术)

资助基金：安徽省红外与低温等离子体重点实验室基金2010A001004D

在线出版日期：2011-12-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：1221-1224