双层等折射率浮雕结构共振布儒斯特滤光片的泄漏模特性

摘要：

通过调整光栅的填充系数,获得具有均质层和光栅层等效折射率相等的表面浮雕结构共振布儒斯特滤光片.深入研究了这类滤光片的泄漏模特性,并讨论光栅参数和入射条件的变化对滤光片共振特性的影响.研究表明:入射角的改变对滤光片泄漏模特性的影响不明显,但填充系数、均质层厚度以及基底折射率的改变对滤光片泄漏模特性影响很大.当填充系数f→1和f＜0.6时,以及当基底折射率接近波导层折射率(n→1.63)时,导模共振效应趋于消失.此外,随着均质层厚度的不断增大,多模共振效应将被激发,从而在一定的波长或入射角范围内导致多个泄漏模共振效应的产生.

关键词：泄漏模特性、共振布儒斯特滤光片、多模共振

所属期刊栏目：39

分类号：TN25(光电子技术、激光技术)

资助基金：上海市科委科技基金资助项目07DZ22302;贵州省省长基金资助项目200847

在线出版日期：2010-09-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：452-459