离子束辅助沉积薄膜工艺

摘要：

阐述了离子源在离子束清洗和离子束辅助薄膜沉积(IAD)中的应用;根据热力学原理及离子碰撞过程分析,研究了离子束辅助沉积过程中的能量传递过程,建立了薄膜折射率与离子辅助沉积过程中各物理量之间的关系模型;探讨了各种工艺条件对离子束辅助沉积薄膜特性的影响,给出了薄膜材料无结晶条件下离子束辅助沉积薄膜工艺选择的相应准则.

关键词：离子束清洗、离子束辅助沉积、离子能量传递

所属期刊栏目：36

分类号：TB43(工业通用技术与设备)

资助基金：国家重点基础研究发展计划973计划2007CB613206

在线出版日期：2008-03-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：896-898