PLD制备铁电薄膜工艺参数的研究现状

摘要：

铁电薄膜在微电子学、光电子学、集成光学和微电子机械系统等领域有着广泛的应用(前景).脉冲激光沉积(PLD)在铁电薄膜制备方面显示出独特的优越性.介绍了PLD的原理、特点;综述了PLD工艺参数,包括衬底温度、氧气压力、靶材结构与成分、能量密度、靶基距离、缓冲膜以及退火工艺等的研究现状;展望了PLD制备铁电薄膜的应用前景.

关键词：脉冲激光沉积、铁电薄膜、工艺参数

所属期刊栏目：36

分类号：TN249(光电子技术、激光技术)

资助基金：山东省优秀中青年科学家研究奖励基金02BS056

在线出版日期：2007-06-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：175-178,264