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10.3969/j.issn.1007-2276.2006.z5.016

高速InP/InGaAs雪崩光电二极管

引用
采用分层吸收渐变电荷倍增(SAGCM)结构,通过两次扩散、多层介质淀积、AuZn p型欧姆接触、AuGeNi n型欧姆接触等工艺,设计制造了正面入射平面InP/InGaAs雪崩光电二极管,器件利用InGaAs做吸收层,InP做增益层,光敏面直径50 μm;测试结果表明器件有正常的光响应特性,击穿电压32~42 V,在低于击穿电压2 V左右可以得到大约10A/W的光响应度,在0到小于击穿电压1 V的偏压范围内,暗电流只有1 nA左右;器件在2.7 GHz以下有平坦的增益.

雪崩光电二极管、InP/InGaAs、光电探测器

35

TN248.4;TN36;TN215(光电子技术、激光技术)

2008-09-24(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

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红外与激光工程

1007-2276

12-1261/TN

35

2006,35(z5)

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