10.13822/j.cnki.hxsj.2020007219
原子转移自由基聚合法合成7-乙酰氧基-4-甲基香豆素分子印迹聚合物及吸附性能研究
以黄曲霉毒素结构类似物7-乙酰氧基-4-甲基香豆素为替代模板,甲基丙烯酸缩水甘油酯为单体,氯化苄为引发剂,氯化亚铜为过渡金属卤化物,2,2-联吡啶为配体,利用原子转移自由基聚合法合成分子印迹聚合物,通过一系列实验对其合成条件进行优化;对聚合物进行表征,并对其吸附黄曲霉毒素的能力进行研究.通过单因素实验和正交试验,得到最佳的合成条件:模板与功能单体的物质的量比为1∶80,引发剂的量为1.5%(单体的质量百分比),反应温度为60℃,过渡金属卤化物与配体的物质的量比为1∶3.在最优的合成条件下合成分子印迹聚合物,并将其作为填充材料制作固相萃取柱,用于选择性分离样品中的黄曲霉毒素,并与商品柱对比.
分子印迹聚合物、原子转移自由基聚合、7-乙酰氧基-4-甲基香豆素、黄曲霉毒素、自制固相萃取柱
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O652.62(分析化学)
国家自然科学基金资助项目;河南工业大学河南省省属高校基本科研业务费专项资金项目
2020-06-11(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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478-482