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10.3969/j.issn.0258-3283.2010.08.011

聚L-组氨酸/铁氰根修饰电极测定痕量银

引用
制备了聚L-组氨酸/铁氰根修饰电极,研究了Ag+在该修饰电极上的电化学行为,建立了一种测定痕量Ag+的新方法,该方法简便准确.在3.0×10-12~7.0×10-6 mol/L的浓度范围内,溶出峰电流与Ag+浓度呈良好的线性关系,检测下限可达1.0×10-13 mol/L.

L-组氨酸、铁氰根、Ag+、修饰电极

32

O657.1(分析化学)

滨州学院"青年人才创新工程"科研基金项目BZXYQNLG200726

2010-11-11(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

711-714

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0258-3283

11-2135/TQ

32

2010,32(8)

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