新型立体测绘光学系统杂散辐射分析与抑制

摘要：

针对国家发明专利《基于集成式共用主镜的双视场立体成像光学系统》(发明专利号：ZL 200910243273.8)中所设计的光学系统，进行了杂散辐射的仿真分析及抑制。为了实现较大基高比的立体测绘，满足内方位元素的高稳定度，以实现对图像的高精度校正，采用了集成式共用主镜的双视场立体成像光学系统，它具有结构紧凑、轻量化及热稳定性好等特点。针对该光学系统独特的光学系统结构型式并实现其工程化，通过仿真并根据杂散光的传播路径进行了分类总结分析，通过采取有效的杂散光抑制措施，光学系统最终的杂散光系数为1.1075%，满足系统的使用要求。

关键词：立体测绘、离轴三反、杂散光抑制、空间相机

分类号：TP702(遥感技术)

在线出版日期：2013-07-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：65-73