在镀镍蓝宝石衬底上生长 ZnO 薄膜研究

摘要：

氧化锌（ ZnO）是一种原料易得、价廉、毒性小的光电薄膜材料，具有巨大的开发潜力，但 ZnO薄膜一般是采用异质外延的方式获得，晶体质量有待提高。采用激光脉冲沉积（ PLD ）方法，在镀镍（ Ni）蓝宝石衬底上生长高质量ZnO薄膜。由于镀镍工艺成熟，能够起缓冲作用，缓解 ZnO 外延层和蓝宝石衬底之间的晶格失配，从而能获得较高质量的 ZnO 薄膜。通过不同条件下生长的样品对比测试及表征，结果表明，在Ni／Al2 O3上生长极性面ZnO 薄膜比直接在蓝宝石上生长 ZnO 薄膜晶体质量更好；同时发现PLD 的生长温度对 ZnO薄膜有较大影响，在550℃生长条件下，生长的极性面（ c面） ZnO薄膜摇摆曲线半峰宽为0．547°，晶体质量明显优于无缓冲层生长的ZnO薄膜。

关键词：ZnO薄膜、脉冲激光沉积、XRD、镍缓冲层

分类号：O782(晶体生长)

资助基金：湖北省教育厅指导性项目项目编号B2014024，B2014039；湖北省“机械工程”重点学科资助。

在线出版日期：2015-03-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：43-46