纳米二氧化硅表面改性条件优化

摘要：

引入微波有机合成技术对纳米SiO2进行表面改性,考察了偶联剂、微波功率和辐照时间、浓硫酸用量等对纳米SiO2表面处理的影响,并通过红外光谱和热失重测试考察了粉体表面化学结构及改性情况.实验得出的纳米SiO2表面处理的最佳工艺条件为:偶联剂的用量为6％(质量百分含量),微波功率为320W,硫酸用量为1.25％(质量百分含量),微波辐射反应时间为15min.

关键词：纳米二氧化硅、表面处理、微波

分类号：TQ4;TB9

在线出版日期：2013-05-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：149-150,156