浅析半导体硅片的超声和兆声清洗技术
实际工作中,半导体硅片的清洁程度对太阳能电池的继续发展有着很大的影响,所以人们对半导体硅片清洗的方法提出了更苛刻的要求.半导体硅片在经过切片、倒角、研磨、抛光等加工过程中,表面会受到不同程度的污染,比如颗粒、金属离子以及有机物.基于此,本文将着重分析探讨半导体硅片的超声和兆声清洗技术,以期能为以后的实际工作起到一定的借鉴作用.
半导体硅片、超声清洗、兆声清洗
TN3;TN4
2017-05-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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半导体硅片、超声清洗、兆声清洗
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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