浅析半导体硅片的超声和兆声清洗技术

摘要：

实际工作中,半导体硅片的清洁程度对太阳能电池的继续发展有着很大的影响,所以人们对半导体硅片清洗的方法提出了更苛刻的要求.半导体硅片在经过切片、倒角、研磨、抛光等加工过程中,表面会受到不同程度的污染,比如颗粒、金属离子以及有机物.基于此,本文将着重分析探讨半导体硅片的超声和兆声清洗技术,以期能为以后的实际工作起到一定的借鉴作用.

关键词：半导体硅片、超声清洗、兆声清洗

分类号：TN3;TN4

在线出版日期：2017-05-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共1页

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