软质印章石抛光工艺

摘要：

为了提升软质印章石的加工质量,在不同型号砂纸和溶胶-凝胶(SG)抛光膜上磨抛巴林石、高山石、芙蓉石3种印章石,探讨研磨盘和载物盘的转动方向、转速,加工压力,加工时间等工艺参数及工艺路线,并确定每道工序的最大光泽度值,以及印章石表面形貌和粗糙度之间的关系.结果表明:最终优化工艺的研磨盘、载物盘分别以300,120 r·min-1同向转动,加工压力为15 MPa;最佳工艺路线是通过在400#砂纸半精磨、在2000#砂纸的精磨和在SG抛光膜上抛光,使印章石表面光泽度达到50以上,粗糙度在100 nm左右,表面形貌在放大100倍时无明显划痕.

关键词：粗糙度、光泽度、表面形貌、印章石、机械抛光

所属期刊栏目：41

分类号：TG356.28(金属压力加工)

资助基金：国家自然科学基金资助项目;福建省科技计划项目;福建省厦门市科技计划项目;华侨大学研究生科研创新培高项目

在线出版日期：2020-07-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：428-433