Ge/Al-SiO2薄膜材料的非线性光学特性

摘要：

采用磁控共溅射及后退火技术制备Ge,Al共掺SiO2薄膜,通过X射线衍射谱和傅里叶红外吸收谱对样品进行表征,并采用皮秒脉冲激光器的单光束Z扫描技术研究薄膜的三阶非线性光学特性.研究结果表明:薄膜材料对1 064 nm的光具有自散焦和双光子吸收效应,薄膜的三阶极化率x(3)为3.84×10-16 m2·V-2.薄膜材料的三阶非线性极化率比SiO2和GeO2均有显著的提高,说明薄膜材料中的纳米Ge颗粒的量子限域效应及双光子吸收效应是其产生非线性光学效应增强的主要原因,同时Al的掺杂也促进了材料的三阶非线性光学效应的增强.

关键词：三阶非线性、光学性质、Ge/Al-SiO2薄膜、Z扫描技术、磁控溅射

所属期刊栏目：33

分类号：O437;O484.4(光学)

资助基金：福建省自然科学基金资助项目2012J01277;福建省青年科技人才创新项目2001J030

在线出版日期：2012-12-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：380-383