锑化铟抛光片表面粗糙度优化研究

摘要：

锑化铟是中波红外探测应用较广的材料.抛光片的表面粗糙度是影响器件性能的关键指标.研究了锑化铟化学机械抛光(Chemical Mechanical Polis-hing,CMP)液的pH值、氧化剂比例以及抛光液流速对锑化铟抛光片表面粗糙度的影响,并结合原子力显微镜(Atomic Force Microscope,AFM)和表面轮廓仪测试对抛光片的表面粗糙度进行了表征和优化.结果表明,当pH值为8、氧化剂比例为0.75％、抛光液流速为200 L/min时,InSb晶片的表面粗糙度为1.05 nm(AFM),同时晶片的抛光宏观质量较好.

关键词：锑化铟、表面粗糙度、pH值、氧化剂比例、抛光液流速、抛光宏观质量

所属期刊栏目：43

分类号：TN213(光电子技术、激光技术)

在线出版日期：2023-02-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：20-25