腔面镀膜对1342nm分布反馈半导体激光器输出功率的影响

摘要：

为提高1342 nm分布反馈(Distributed Feedback,DFB)半导体激光器的输出功率,设计了三种腔面膜膜系组合.采用电子束蒸发镀膜技术对该激光器进行了腔面镀膜,并测试了其在三种膜系组合下的输出功率.结果表明,采用增透膜为基底(Sub)/Al2O3/Ta2O5/空气(Air)、高反膜为 Sub/(Al2O3/Si)3Al2O3/Air的腔面膜膜系组合时,激光器的输出功率最高.前腔面反射率为0.2％,后腔面反射率为98.6％.在260 mA的直流电流下,平均输出功率达到了 85 mW以上(增加了 85.6％),斜率效率提升了 82.9％.通过采用此膜系组合进行激光器腔面镀膜,可以大幅提升1342 nmDFB半导体激光器的输出功率.

关键词：1342 nm、分布反馈、腔面镀膜、输出功率

所属期刊栏目：43

分类号：O43(光学)

资助基金：国家重点研发计划;研究生科研与实践创新计划校级项目

在线出版日期：2023-01-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：26-32