碲锌镉衬底重复利用技术研究
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10.3969/j.issn.1672-8785.2021.12.004

碲锌镉衬底重复利用技术研究

引用
芯片制备工艺完成后,给芯片留有一定厚度的衬底,同时利用丝切割技术将多余的碲锌镉衬底取下,并对其进行重复抛光处理.碲锌镉衬底的锌值分布及半高宽(Full Width at Half Maximum,FWHM)测试结果表明,碲锌镉衬底质量较好,可以再次用来制备液相外延碲镉汞薄膜.该薄膜经过标准探测器芯片工艺后,性能合格.该研究使原本要完全去除的衬底得以重复利用,提高了碲锌镉衬底的利用率,降低了探测器的制造成本.

碲锌镉;衬底;再次抛光;重复利用

42

TN214(光电子技术、激光技术)

2022-01-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

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1672-8785

31-1304/TN

42

2021,42(12)

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