InAs/GaSb台面结型器件制备工艺技术研究

摘要：

随着红外探测技术的不断进步,第三代红外探测器的发展需求日渐明晰.由于带间跃迁工作原理、暗电流抑制效应以及成熟的材料制备技术基础等因素,InAs/GaSb超晶格材料已经成为了第三代红外焦平面探测器的首选制备材料.基于InAs/GaSb超晶格材料的台面结型焦平面器件制备方法主要包括湿法腐蚀技术、干法刻蚀技术以及干湿法结合技术.从文献调研结果来看,湿法腐蚀技术和干法刻蚀技术各有优缺点.湿法腐蚀技术适用于单元以及少像元面阵的制备,其中磷酸系腐蚀液的腐蚀效果最佳;干法刻蚀技术适用于大面阵、小尺寸焦平面阵列的制备,几种氯基刻蚀气体体系以及氯基与甲烷基组合的刻蚀气体体系都表现出了不错的刻蚀效果;干湿法结合技术在干法刻蚀后引入湿法腐蚀工艺以进一步消除刻蚀损伤,从而提高器件性能.对以上三种技术方案进行了介绍和分析.

关键词：InAs/GaSb、超晶格、干法刻蚀、湿法腐蚀、干湿法结合技术

所属期刊栏目：39

分类号：TN3(半导体技术)

在线出版日期：2018-09-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：5-10