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10.3969/j.issn.1672-8785.2016.10.001

金掺杂HgCdTe气相外延生长及二次离子质谱研究

引用
通过气相外延技术生长了Au掺杂的Hg1-xCdxTe薄膜材料.利用傅里叶光谱仪和金相显微镜对外延材料进行了表征.通过二次离子质谱(Secondary Ion Mass Spectroscopy,SIMS)技术分析了Au在Hg1-xCdxTe外延层以及CdZnTe衬底中的纵向分布趋势.利用SIMS技术还分析了Ⅰ、Ⅱ族和Ⅵ、Ⅶ族杂质在Hg1-xCdxTe外延层以及CdZnTe衬底中的纵向分布趋势,发现衬底和外延层的过渡区具有吸杂作用.研究结果对提高探测器的性能具有指导意义.

Hg1-xCdxTe晶体、二次离子质谱、气相外延、Au掺杂、杂质

37

O472+.3(半导体物理学)

国家自然科学基金项目61106097,61204134,11304335;中国科学院三期创新项目CX-26;中国载人空间站工程TGJZ800-2-RW024

2016-11-22(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共7页

1-6,16

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1672-8785

31-1304/TN

37

2016,37(10)

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