10.3969/j.issn.1672-8785.2012.06.003
用脉冲激光沉积方法制备的ZnO薄膜的结构及光致发光特性
在从室温到800℃的温度范围内,用脉冲激光沉积方法在Al2O3(0001)衬底上制备了ZnO薄膜.采用X射线衍射仪、原子力显微镜以及荧光光谱仪分别研究了衬底温度对ZnO薄膜表面形貌、结晶质量和光致发光特性的影响.X射线衍射仪和原子力显微镜的结果表明,当衬底温度从室温升高到400℃时,ZnO薄膜的结构及结晶质量逐渐提高,而当衬底温度超过400℃时,其结构和结晶质量变差;在400℃下生长的ZnO薄膜具有最佳的表面形貌和结晶质量.室温光致发光的测量结果表明,400℃下生长的ZnO薄膜的紫外发光强度最强,且发光波长最短(386 nm).
ZnO薄膜、激光脉冲沉积、衬底温度、光致发光
33
O439(光学)
国家自然科学基金项目11144010
2012-07-27(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
12-16