用低压反应离子镀技术制备的类金刚石薄膜及其表征

摘要：

以Ar气作为工作气体,CH4作为反应气体,利用低压反应离子镀(RLVIP)技术在Ge基底上成功制备出类金刚石(DLC)薄膜.通过拉曼光谱、Perking Elmer GX型红外光谱仪和Nano Indenter XP型纳米压痕硬度测试计分别表征了类金刚石薄膜的微观结构、光学性能和机械性能.结果表明,类金刚石薄膜(ID /IG =0.918)具有较高的sp3键含量,其硬度值达到28.6 GPa,弹性模量为199.5 GPa;单层膜系在8～11.5μm波段的峰值透过率为63.6,平均透过率为62%.

关键词：低压反应离子镀、类金刚石薄膜、拉曼光谱、显微硬度

所属期刊栏目：32

分类号：O484;TB43(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金项目60478035

在线出版日期：2012-01-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：8-11