10.3969/j.issn.1672-8785.2011.08.001
一种用于检测薄膜均匀性的光谱方法
介绍了一种新的简单有效的薄膜均匀性信息获取方法,该方法基于我们先前提出的纳米薄膜厚度精确测量方法,它通过检测镀制在含有过渡层的衬底上不同位置的薄膜的光谱,并由其干涉峰间的差异获取薄膜的均匀性信息.与传统方法相比,该方法无需直接测量薄膜的厚度,减少了测量膜厚带来的误差和影响,因而可以快速得出薄膜均匀性结论.该方法操作方便、计算简单,为改进镀膜工艺提供了重要参考.
薄膜均匀性、透射光谱法、干涉峰
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O484(固体物理学)
国家自然科学基金10874196、60508018;上海市青年科技启明星跟踪计划08QH14025;上海市研发基地协作能力建设专项09DZ2202200、08DZ2201000
2012-01-07(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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