10.3969/j.issn.1672-8785.2010.11.003
MPCVD金刚石薄膜的红外椭偏光学性能研究
椭圆偏振光谱法是一种非破坏性光谱技术.为了获得微波等离子体化学汽相沉积(MPCVD)金刚石薄膜的最佳沉积条件,用红外椭圆偏振光谱仪对MPCVD金刚石薄膜的红外光学性能进行了表征测量,并分析了衬底温度和反应室的压强对金刚石薄膜的红外光学性质的影响.当甲烷浓度不变,衬底温度为750℃,反应室的压强为4.0kPa时,金刚石膜的红外椭偏光学性质达到最佳,其折射率的平均值为2.393.研究结果表明,金刚石薄膜的光学性能与薄膜质量密切相关,同时也获得了最佳的金刚石薄膜工艺条件.
红外椭偏、光学性能、折射率、金刚石薄膜
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O484.4+1;TN213(固体物理学)
国家自然科学基金批准号60877017;教育部长江学者与创新团队发展计划IRT0739;上海市教委创新科研项目08YZ04;上海市重点学科S30107
2011-01-28(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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11-14,24