基片表面状态对Pb1-x GexTe薄膜红外光学性能的影响

摘要：

在高真空中用热蒸发的方法沉积了碲锗铅(Pb1-xGexTe)薄膜.分析了基片表面状态(粗糙度、晶向、温度)对膜层结构和红外光学特性的影响,发现光滑表面容易得到致密膜层和高红外折射率;随着沉积温度的增加,膜层的短波吸收边(入c)往长波方向移动.

关键词：Pb1-xGexTe、表面状态、红外薄膜、光学常数(n、k)

所属期刊栏目：31

分类号：TN213(光电子技术、激光技术)

在线出版日期：2010-11-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：14-17