退火对Al2O3薄膜结构和发光性能的影响

摘要：

氧化铝(Al2O3)薄膜具有许多优良的物理化学性能,在机械、光学及微电子等高科技领域有着广泛应用,一直受到人们的高度关注.但Al2O3具有多种物相形态,性质差别很大.因此研究不同结构对其发光性能的影响在Al2O3实际应用中有着重要意义.本文采用射频磁控溅射技术在单晶硅衬底上制备了Al2O3薄膜,并在氮气中进行了不同温度的退火,对比了退火前后薄膜的结构和光致发光特性.观察到了在384nm和401nm附近的两个荧光峰,这两个发光峰都是由色心引起的.随着退火温度的升高,Al2O3薄膜的结晶质量变好,同时荧光峰峰位发生了相应的变化,强度也发生了明显的变化.

关键词：Al2O3薄膜、光致发光光谱、射频磁控溅射、红移、色心

所属期刊栏目：30

分类号：TB43(工业通用技术与设备)

资助基金：国家自然科学基金60806028;安徽省红外与低温等离子体重点实验室2007C002107D;安徽省自然科学基金090414182;973项目2008CB717802

在线出版日期：2010-01-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：26-29