10.3969/j.issn.1672-8785.2008.08.006
沉积温度对PbTe薄膜结构和光学性能的影响
采用电阻热蒸镀法,分别以不同的沉积温度在锗基底上制备了PbTe薄膜.用x射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)和红外光谱测试仪(System2000)表征了不同沉积温度下薄膜的微结构和光学特性.结果表明,沉积温度对PbTe薄膜的结构、择优取向、生长方向、晶粒大小,禁带宽度以及短波吸收限均有明显影响.
PbTe、沉积温度、XRD、AFM
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O408
2008-09-24(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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