TiO2/SiO2纳米多层膜光学特性研究

摘要：

采用磁控溅射方法在玻璃基底上制备了TiO2/SiO2纳米多层膜,用椭偏仪测试了薄膜的厚度和折射率.黑体实验研究表明,TiO2/SiO2纳米多层膜在800nm～1600nm区域内对红外线的吸收较好,且吸收率随着温度的升高而增大.红外光谱研究表明,TiO2/SiO2纳米多层膜在2300cm-1～2900cm-1区域内对红外线的吸收较好.

关键词：磁控溅射、纳米多层膜、光学特性

所属期刊栏目：28

分类号：O4(物理学)

在线出版日期：2007-04-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：12-14