10.3969/j.issn.1672-8785.2007.02.003
TiO2/SiO2纳米多层膜光学特性研究
采用磁控溅射方法在玻璃基底上制备了TiO2/SiO2纳米多层膜,用椭偏仪测试了薄膜的厚度和折射率.黑体实验研究表明,TiO2/SiO2纳米多层膜在800nm~1600nm区域内对红外线的吸收较好,且吸收率随着温度的升高而增大.红外光谱研究表明,TiO2/SiO2纳米多层膜在2300cm-1~2900cm-1区域内对红外线的吸收较好.
磁控溅射、纳米多层膜、光学特性
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O4(物理学)
2007-04-04(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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