Ⅲ族氮化物材料制备
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10.3969/j.issn.1672-8785.2004.07.005

Ⅲ族氮化物材料制备

引用
Ⅲ族氮化物材料是继Si和GaAs后又一类重要的半导体材料.本文主要介绍了用几种外延技术制备GaN材料的方法,并介绍了一种与GaN晶格匹配的新型衬底材料.

外延、GaN材料、晶格匹配

TQ12

2004-08-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

24-27

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红外

1672-8785

31-1304/TN

2004,(7)

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