10.3969/j.issn.1672-8785.2004.07.005
Ⅲ族氮化物材料制备
Ⅲ族氮化物材料是继Si和GaAs后又一类重要的半导体材料.本文主要介绍了用几种外延技术制备GaN材料的方法,并介绍了一种与GaN晶格匹配的新型衬底材料.
外延、GaN材料、晶格匹配
TQ12
2004-08-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
24-27
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10.3969/j.issn.1672-8785.2004.07.005
外延、GaN材料、晶格匹配
TQ12
2004-08-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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