离子束诱导转型成结的碲镉汞光伏器件

摘要：

离子束诱导转型成结技术是一种可以获得高质量p-n结的新型成结方法,它克服了传统碲镉汞(MCT)离子注入成结工艺中钝化层有损伤的弊病,且工艺相对简单,有希望成为碲镉汞红外焦平面器件的新一代成结技术.本文介绍了以环孔工艺和氢化技术为代表的常规离子束刻蚀(Ion Beam Milling)及以H2/CH4为代表的反应离子束刻蚀(Reactive Ion Etching)两大类离子束诱导转型(P.lasma induced type conversion)成结技术的基本原理、特点及其工艺过程.并以反应离子束刻蚀(RIE)为例,列举了现有报道的典型器件性能.同时还把离子束诱导与离子注入工艺在各方面作了比较.

机标关键词：反应离子束刻蚀、转型、离子注入工艺、氢化技术、红外焦平面器件、碲镉汞、器件性能、环孔工艺、工艺过程、钝化层、质量、原理、损伤、方法

分类号：TN21(光电子技术、激光技术)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：1-9