10.3969/j.issn.1672-8785.2002.09.001
铁电薄膜光学性质的研究
本文对铁电薄膜的光学性质的研究进展进行了详细的总结.与人们对铁电薄膜的电学性质的研究相比,人们对光学性质的研究较少.由于铁电薄膜及其无定形薄膜都具有许多优良的电学性质,因此对它们的光学性质研究也很有必要.光学手段具有非破坏性,通过这种手段可以获得薄膜的光学常数折射率和消光系数,从而进一步获得它们的禁带宽度.中红外透射可以表征铁电薄膜内部结构的相变过程.通过远红外手段,可以研究薄膜的内部微观机制,如晶格振动等.最后,阐述了铁电薄膜及其无定形薄膜光学性质研究的发展方向.
铁电薄膜、薄膜的光学性质、无定形薄膜、电学性质、薄膜光学性质、消光系数、相变过程、微观机制、内部结构、晶格振动、禁带宽度、红外透射、光学常数、非破坏性、折射率、远红外、表征
TG1(金属学与热处理)
2005-03-03(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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