10.3969/j.issn.1672-3422.2003.07.004
复发性口疮发作期与间歇期血清NO NOS水平变化
目的分析复发性口疮发作期与间歇期血清一氧化氮(NO)、一氧化氮合酶(NOS)水平的动态变化,探讨复发性口疮病情的变化与血清NO、NOS水平变化的关系,为其防治提供新思路.方法分别检测复发性口疮发作期、间歇期及健康对照者血清NO、NOS水平,进行比较.结果复发性口疮血清NO、NOS水平发作期高于间歇期(P<0.01),间歇期高于健康者.结论复发性口疮血清NO、NOS随复发性口疮的缓解而降低,说明其参于复发性口疮的发病过程.
复发性口疮、发作期、间歇期、一氧化氮、一氧化氮合酶
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R78(口腔科学)
河南省开封市自然科学基金2000108
2006-07-07(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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