短小芽孢杆菌E601传代和中子辐照后的菌落形态变化

摘要：

为研究短小芽孢杆菌E601不同形态菌落分布情况及中子辐照时其影响,对短小芽孢杆菌不同形态菌落进行了反复传代,并采用CFBR-Ⅱ快中子脉冲反应堆分别对不透明菌落进行了低、中、高剂量的一次中子辐照和二次中子辐照,发现:(1)在正常传代条件下,E601短小芽孢杆菌有半透明型和不透明型茵落存在;(2)经反复传代,半透明菌落可产生各占一半的半透明型与不透明型两种茵落形态.而不透明茵落基本不产生半透明菌落;(3)中子辐照对茵落分布影响较大,随着一次中子辐照剂量的升高,半透明茵落所占的比例逐渐增加;当中子二次辐照剂量最高时,半透明茵落所占比例最大.因此认为E601短小芽孢杆菌之所以能产生两种不同形态菌落,主要是由半透明菌落的不稳定性决定的.在中子辐照中,半透明菌落型菌株耐辐照能力高于不透明型菌落菌株.

关键词：短小芽孢杆菌E601(Bacillus pumilus)、辐照灭菌、茵落形态

所属期刊栏目：22

分类号：S43;R97

资助基金：西南科技大学核废物与环境安全国防重点学科实验室基金项目07JGZB07;中物院预研基金项目052056;西南科技大学博士基金

在线出版日期：2008-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：291-295