氧空位调控BiVO4纳米片的制备及光解水制氧性能

摘要：

采用水热和烧结方法制备了氧空位调控的BiVO4纳米片.通过X射线衍射仪、电子自旋共振谱仪、透射电子显微镜、紫外-可见分光光度计、荧光光谱仪和光解水制氧系统研究了不同氧空位含量(Ov)BiVO4纳米片的结构和光解水制氧性能.通过对氧空位含量的调控,实现了对BiVO4纳米片的光吸收和光电性能的优化,极大提高了BiVO4纳米片的光解水制氧效率.结果表明:引入氧空位后,BiVO4纳米片在可见光区的光吸收明显增强,并且随着氧空位含量的增加,样品的吸收边发生明显红移.适量氧空穴的引入显著提高了光生电子和空穴的分离,从而提 高光生电子的利用率.BiVO4-OV2纳米片的光催化产氧速率约433μmol/(h·g),约为BiVO4纳米片的10倍.

关键词：BiVO4纳米片、氧空位、载流子分离、产氢速率

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分类号：TB321;O643.36(工程材料学)

资助基金：黑龙江省省属高等学校基本科研业务项目2020-KYYWF-0883

在线出版日期：2022-09-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：22-27